Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08)

Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08)
Наличие:
Уточнить у менеджера
Цена:
по запросу

Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08), как и ее аналог предыдущего ВН-2000 , предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно - лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).

Конструктивные особенности

Установка может быть применена для исследования в области физики, химии, биологии, медицине, материаловедении, микроэлектроники и других отраслях, а также отработки отдельных технологических операций по напылению.

Установки могут эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 °С до 35 °С, относительной влажности не более 80 % и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.

Электрическое питание установки должно соответствовать:

  • Напряжение, В 380/220;
  • Частота, Гц 50.
  • Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.
  • Потребляемая мощность установки должна быть не более 3кВА

Автоматическая система управления вакуумной частью ВН-2000 (-08), возможность визуального контроля электрических параметров блоков на цифровом табло, новая элементная база и возможность использования большего числа дополнительных аксессуаров позволяет значительно облегчить работу пользователя и расширить функциональные возможности установки.

Устройство и принцип работы

Установка выполнена в виде двух стоек - электрической и вакуумной. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными кабелями.

В электрической стойке размещены:

  • блок распределительный;
  • блок питания высоковольтный;
  • блок трансформаторов;
  • блок управления;
  • пульт управления;
  • блок питания турбомолекулярного насоса БПТ-1000.

В вакуумной стойке расположена вакуумная система. Кроме вакуумной системы в данной стойке расположены:

  • рабочий объем
  • система напуска газа в рабочий объем;
  • система водяного охлаждения турбомолекулярного насоса.

В рабочий объем устанавливаются устройство для термического испарения и устройство осаждения пленок.

Технические характеристики

Установка обеспечивает предельное остаточное давление, Па

5х10^-4

Нагреватель в устройстве напыления обеспечивает температуру, не менее, °C

300

Время нагрева, не более, мин

30

Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя (без нагрузки), кВ

0,5-4

Предельное отклонение верхнего значения, кВ

0,3

Напряжение блока питания магнетрона постоянного тока (без нагрузки), не более, кВ

1

Максимальный ток блока питания магнетрона постоянного тока, мА

300

Максимальный ионный ток устройства ионного травления, мА

100

Установка обеспечивает откачку рабочей камеры с атмосферного давления до давления 2х10^-3 Па за время, не более, мин

15

Ток пучка электронного испарителя, мА

0-200

Ток накала электронно-лучевого испарителя, А

2-10

Ток источника резистивного испарителя 1, А

5-200

Ток источника резистивного испарителя 2, А

3-50

Габариты стойки аналитической, мм

470х540х1600

Габариты стойки электрической, мм

610х630х1670

Масса установки, кг

350

Похожия продукция

График доставки