Вакуумный пост ВН 2000

Вакуумный пост ВН 2000
Наличие:
Уточнить у менеджера
Цена:
по запросу

Вакуумный пост ВН 2000 предназначен для получения пленок из различных материалов с высокой производительностью методом магнетронного распыления, а также для подготовки объектов, исследуемых с помощью электронного микроскопа или других аналитических приборов.

Прибор может быть применен для исследований в области физики, химии, биологии, медицины и других областях науки и техники.

Прибор предназначен для эксплуатации в стационарных лабораторных условиях при температуре окружающего воздуха от 15 до 25 °С и относительной влажности не более 80%. Наличие в помещении агрессивных паров недопустимо.

Конструктивные особенности

Питание прибора осуществляется от трехфазной сети переменного тока напряжением 220/380 В, частотой 50 Гц.

  • Остаточное давление в высоковакуумном объеме пpи охлаждении ловушки жидким азотом 1,3 х 10-4 Па.
  • Остаточное давление в высоковакуумном объеме при охлаждении ловушки водой 1,3 10-3 Па.
  • Ток накала испарителей 200 А.
  • Температура столика для нагрева объектов 1100°С.
  • Температура столика для охлаждения объектов, °С, минус 160.
  • Напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя 7 кВ.
  • Максимальный ток тлеющего разряда 47 мА.
  • Максимальное напряжение на выходе высоковольтного выпрямителя источника питания магнетрона, кВ, не менее 0,9.
  • Максимальный ток магнетрона, мА, не менее 300.
  • Температура в районе подложки устройства для осаждения пленок не менее 300°С. Время нагрева не более 30 мин.
  • Время смены подложек не более 7 с, скорость вращения подложек не менее 0,5 с -1.
  • Заслонка устройства смены подложек обеспечивает перекрытие потока испаряемого вещества от испарителя к подложкам.
  • Устройство дискретного испарения обеспечивает подачу на испаритель в процессе испарения измельченного вещества.
  • С помощью пультов управления обеспечивается выход в рабочий режим вакуумной системы из холодного состояния, и коммутация вакуумной системы во время работы.

Магнитораспыляющая система обеспечивает:

  • универсальность процесса, что позволяет получить пленки металлов, сплавов и полупроводников;
  • высокую скорость осаждения с возможностью ее регулирования в широких пределах;
  • сохранение соотношения компонентов при распылении вещества сложного состава;
  • получение особо чистых пленок;
  • высокую адгезию пленок и подложки;
  • возможность изменения структуры и свойств пленок;
  • распыление нескольких материалов без разгерметизации объема;
  • низкую пористость пленок даже при малых толщинах;
  • небольшое тепловое воздействие на обрабатываемую структуру;
  • высокую энергетическую эффективность процесса;
  • использование для осаждения и травления широкого класса материалов.
Технические характеристики

Диаметр мишени, мм

40

Максимальный диаметр подложки, мм

70

Питание магнетрона: максимальный ток, мА

350

Напряжение высоковольтного выпрямителя, кВ

1

Масса прибора, кг

300

Габаритные размеры, мм, не более: длина

540

ширина

910

высота

1550

Потребляемая мощность без приставок, кВА, не более

1,9

Максимальная потребляемая мощность, кВА, не более

5

Похожия продукция

График доставки